產品名稱：鉬靶材
純度: 99.95%
密度：≥10.2g/cm3
尺寸范圍：--- (可根據客戶需求定制）
外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內外表面呈現出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛刺等
用途：用于制作真空高爐用發熱部件、隔熱部件，在化學工業中可用于制作蒸煮器、加熱器、冷卻器、各種器皿器件等，以及在航空、航天工業、醫療器械等域有廣泛應用。
濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。
在被濺射的靶(陰)與陽之間加個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有定的負高壓，從靶發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大，在陰附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應用于：平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、（磁、光）記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
可以根據用戶的要求提供以下尺寸的鉬濺射靶材:
板靶材: 單重:≤200kg/pc, 純度:≥99.95%
管靶材: 長度:≤Φ165mmΧ1000mm ,純度:≥99.95%
